Plasma Etching: Fundamentals and Applications
M. Sugawara
5/1998 · Series on Semiconductor Science and Technology 7. kniha · OUP Oxford
star
1 recenzia
E‑kniha
356
Počet strán
Táto e‑kniha
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
Zistite viac
Hodnotenia a recenzie
1 recenzia
O autorovi
Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430
Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430
Ohodnoťte túto elektronickú knihu
Povedzte nám svoj názor.
Informácie o dostupnosti
Smartfóny a tablety
Nainštalujte si aplikáciu Knihy Google Play pre Android a iPad/iPhone. Automaticky sa synchronizuje s vaším účtom a umožňuje čítať online aj offline, nech už ste kdekoľvek.
Laptopy a počítače
Audioknihy zakúpené v službe Google Play môžete počúvať prostredníctvom webového prehliadača v počítači.
Čítačky elektronických kníh a ďalšie zariadenia
Ak chcete tento obsah čítať v zariadeniach využívajúcich elektronický atrament, ako sú čítačky e‑kníh Kobo, musíte stiahnuť príslušný súbor a preniesť ho do svojho zariadenia. Pri prenose súborov do podporovaných čítačiek e‑kníh postupujte podľa podrobných pokynov v centre pomoci.
